Neste projeto de pesquisa objetivamos em modificar a superfície da liga ternária TNZ de grãos em escala nanométrica de modo a promover uma osseointegração precoce e lhe conferir ação bioativa melhorada. Para tanto, superfícies do substrato nanoestruturado Ti-13Nb-13Zr foram submetidadas a revestimento por filme fino em alumina (Al2O3) no processo Atomic Layer Deposition (ALD) a relativa baixa temperatura, de forma a depositar uma camada protetiva longe do padrão de janela de temperatura para caracterizar sobre as ranhuras superficiais da liga TNZ uma topografia ideal para ancoragem de material proteico em análises biológicas. Os corpos de prova consistiram de substrato (TNZ), Substrato com deposição de hidroxiapatita (HA) por eletrodeposição (TNZ/HA), subatrato em alumina (TNZ/Al) e substrato em duplo revestimento (TNZ/Al/HA. Essas amostras foram caracterizadas por AFM, Rama MEV, EDS e DRX. Estas superfícies exibiram atividade de boa biocompatibilidade em testes de viabilidade celular, mineralização de matriz extracelular e adesão e proliferação celular. As várias superfícies produzidas neste trabalho são promissoras para a utilização como implantes, podendo ser úteis principalmente depois de testes in vivo visando uma melhor conclusão sobre o estímulo para a osteogênese. O objetivo desta tese foi investigar o comportamento do nanorevestimento de alumina em ALD a partir da sua forma mais utilizada comercialmente, com precursor TMA (trimetilamina) e a purga em meio aquoso. A combinação de dupla camada de revestimento protetivo de liga de titânio TNZ para implantes envolvendo filme fino de alumina ALD e hidroxiapatita por eletrodeposição foi conduzido para fabricar uma topografia superficial ideal para o desenvolvimento e ancoragem de camadas dos revestimentos bioativos. A topografia no substrato e a ativação heterogênea dos sítios reativos parecem contribuir com a complexidade de deposição de alumina a baixa temperatura na formação das camadas homogêneas e densas de HA. Filmes finos de Al2O3 com espessura entre e 100 nm foram sintetizados a 150°C por deposição de camadas atômicas sobre substratos da liga TNZ. A evolução da camada de interface e das propriedades do material com o tratamento térmico foram estudadas. As análises EDS comprovaram propriedades protetivas em dupla camada TNZ/AL/HA contra contaminantes e íons do substrato (Ti, Nb, Zr). Os espécimes de bicamadas proposto para mostrar a influência da estrutura de alumina a baixa temperatura em ALD na formação de HA são viáveis para futuros estudos de bioatividades em implantes de ligas TNZ. A liga TNZ quase beta tem boas qualidades biocompatível, por apresentar estabilidade química e propriedades mecânicas melhoradas pelo processo SPD(severa deformação plástica) aplicando a forma variante HPT( alta pressão e torção). A nanoestruturação do material melhorou as propriedades de resistência à corrosão tornando o material pesquisado como ideal para fabricação de implantes. A nanoestrutura reduz os defeitos existentes no substrato, melhora suas propriedades mecânicas e torna a superfície quimicamente mais ativa em relação aos revestimentos depositados, interagindo de forma diferente diante de um modelo Ti13Nb13Zr microestruturada. Esta pesquisa demonstrou ser viável fabricar sistemas bioativos envolvendo revestimentos à base de alumina em ALD pelo método em menor custo sobre liga titânio próximo a beta, de baixo módulo de Young em decorrência da nova sinergia amplificada no processo de nanoestruturação do material em HPT.